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采用磁控共溅射法在Si片表面镀NiTi膜作为碳纳米管生长的催化剂,制备出表面形貌特殊的碳纳米管薄膜,如“丘状”和“星状”的表面微结构。通过扫描电子显微镜对碳纳米管薄膜的形貌进行表征,采用二极管形式测试了碳纳米管薄膜的场发射性能。实验结果表明,这两种碳纳米管薄膜都具有优异的场发射性能,10μA/cm^2时的开启电场分别仅为1．02 V/μm和1．15 V/μm,在外加电场为2．4 V/μm时的电流密度分别达到4．32 mA/cm^2和6．88 mA/cm^2。通过场发射FN的曲线计算得到的场发射增强因子分别