受阻胺光稳定剂GW-944合成方法改进

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针对受阻胺光稳定剂GW-944的合成,分别采用3条不同的合成路线进行了研究,即改进的两步法合成路线、三步法合成路线和四步法合成路线.结果证明,这3条路线都能有效地控制产品的相对分子质量分布在2400~3000,其在425 nm和450 nm下的透光率均大于97%,达到国外同类产品在425 nm和450 nm下的透光率为95%的水平.其中,经改进的两步法合成工艺操作过程简单,更有利于实现GW-944的工业化生产.
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