基片表面的磁场对磁控溅射法制备Fe—N薄膜特性的影响

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：kittyranger

【摘要】

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利用反应磁控溅射方法制备了Fe-N薄膜.发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态,退火或在沉积时对基片施加一磁场,可使晶粒变大,并出现对应内部存在应力的γ′-Fe4N的(110)晶

【作者】

：

朱炎狄国庆陈亚杰赵登涛杨海峰

【机构】

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苏州大学物理系

【出处】

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真空科学与技术

【发表日期】

：

2001年4期

【关键词】

：

磁场磁性能晶粒铁-氮薄膜磁控溅射制备 FeN films Magnetic field Magnetic properties Crystallin

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利用反应磁控溅射方法制备了Fe-N薄膜.发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态,退火或在沉积时对基片施加一磁场,可使晶粒变大,并出现对应内部存在应力的γ′-Fe4N的(110)晶面的择优取向.特别是外加的磁场使得Fe-N薄膜具有明显改善的磁性能.作者利用磁场中带电粒子受约运动的观点解释了这一现象.

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