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期刊论文
同步辐射X射线光刻技术
同步辐射X射线光刻技术
来源 :应用光学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:suenger
【摘 要】
:
同步辐射X射线光刻(SRXL)是本世纪超大规模集成电路(VLSI)发展中最有希望的深亚微米图形加工技术,本文综述了SRXL技术研究的现状及存在的问题,并对其今后的发展进行展望.
【作 者】
:
张东平
乐德芬
胡一贯
【机 构】
:
中国科技大学物理系,国家同步辐射实验室
【出 处】
:
应用光学
【发表日期】
:
2001年4期
【关键词】
:
同步辐射
X射线
光刻技术
集成电路
synchrotron radiation
Xray
lithography
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同步辐射X射线光刻(SRXL)是本世纪超大规模集成电路(VLSI)发展中最有希望的深亚微米图形加工技术,本文综述了SRXL技术研究的现状及存在的问题,并对其今后的发展进行展望.
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