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功率半导体器件终端SIPOS/PI复合钝化结构研究
功率半导体器件终端SIPOS/PI复合钝化结构研究
来源 :辽宁大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:liuya
【摘 要】
:
本文采用直流辉光放电法在台面功率半导体器件上生长SIPOS钝化膜.研究结果表明,SIPOS钝化的功率器件性能要好于聚酰亚胺钝化的功率器件,可以有效地提高功率器件的可靠性.基于此提
【作 者】
:
郑英兰
王颖
钟玲
吴春瑜
【机 构】
:
沈阳职业技术学院电气工程系,哈尔滨工程大学信息与通信工程学院,沈阳炮兵学院雷达教研室,辽宁大学物理学院
【出 处】
:
辽宁大学学报(自然科学版)
【发表日期】
:
2010年1期
【关键词】
:
斜角造型器件
半绝缘多晶硅
漏电流
钝化
beveled device SIPOS Leakage current passivation
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本文采用直流辉光放电法在台面功率半导体器件上生长SIPOS钝化膜.研究结果表明,SIPOS钝化的功率器件性能要好于聚酰亚胺钝化的功率器件,可以有效地提高功率器件的可靠性.基于此提出了SIPOS/PI复合钝化结构来改善台面功率半导体器件的表面特性.
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