【摘 要】
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在FTO（即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃）基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜
【机 构】
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先进催化材料教育部重点实验室固体表面反应化学浙江省重点实验室浙江师范大学物理化学研究所
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在FTO（即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃）基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜。利用X射线衍射（XRD）、拉曼光谱、扫描电镜（SEM）和漫反射–紫外可见光谱（UV-Vis DRS）表征了试样的结构、形貌及光学性质。通过在0.2 mol/L Na2SO4溶液中测试样品在可见光和零偏压下的光电流，分析了薄膜的光电化学性能。结果表明，超薄的SnO2修饰层能显著增强Cu2O多孔薄膜的光电
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