【摘 要】
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采用直流双靶磁控溅射共沉积的方法制备了W含量为75%(原子分数)的WCu薄膜,并通过EDS、XRD、SEM、TEM等对WCu薄膜沉积初期的微观形貌及组织结构进行了表征和分析。结果表明,沉
【机 构】
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湖南大学材料科学与工程学院,湖南省喷射沉积技术重点实验室
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采用直流双靶磁控溅射共沉积的方法制备了W含量为75%(原子分数)的WCu薄膜,并通过EDS、XRD、SEM、TEM等对WCu薄膜沉积初期的微观形貌及组织结构进行了表征和分析。结果表明,沉积初期,随着沉积时间延长,WCu薄膜有逐渐晶化的趋势,并形成了W(Cu)基亚稳态固溶体,且Cu在W中的固溶度逐渐增加。沉积10s时薄膜呈长程无序、短程有序的非晶态,局部有由于靶材粒子扩散不充分而形成的小于5nm的W、Cu纳米晶;20s时局部纳米晶消失但晶化程度升高;30s时晶化显著。沉积初期WCu薄膜随沉积时间延长逐渐晶化
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