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采用原位水热合成法，在γ‐Al2 O3膜修饰后的α‐AL2 O3载体上制备了亲水性 Ge‐ZSM‐5沸石膜，探讨了模板剂用量、晶化温度对膜微结构的影响。结果表明：模板剂用量低时（n （TPAOH）／n（SiO2）＝0.03），膜层不致密；增大模板剂用量（n（TPAOH）／n（SiO2）＝0.04，0.05），膜层致密连续；晶化温度较低时（160℃ ），膜层连续性差；升高晶化温度（170，180℃ ），得到致密连续膜层。当合成液摩尔比为 n（GeO2）∶ n（SiO2）∶ n（TPAOH）∶ n（H2O）＝