【摘 要】
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常压化学汽相淀积(APCVD)硼/磷硅玻璃膜(BPSG)已经确定了最佳条件,能更有效地利用反应剂,得到颗粒杂质比以前少得多的玻璃膜。这些改善,是通过降低淀积温度和提高氧/氢化物(
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常压化学汽相淀积(APCVD)硼/磷硅玻璃膜(BPSG)已经确定了最佳条件,能更有效地利用反应剂,得到颗粒杂质比以前少得多的玻璃膜。这些改善,是通过降低淀积温度和提高氧/氢化物(混合烷)比例,使产生颗粒的同类气相核减至最少而异质CVD反应最大来形成理想的玻璃膜。这种工艺在实验室型和大规模生产反应器中均已采用。BPSG膜的这些特性,在集成电路的台阶熔化变斜的应用中是重要的,它们没有被最佳CVD工艺改变。本文讨论和详细说明了与BPSG工艺另外几个方面有关的新结果,它们是:玻璃膜在加工过程中的稳定性;在不同环境中的熔化和关于玻璃回流的等温快速和热技术的应用。此外,本文还收集了从1955年起至1985年6月的关于BPSG的全部参考资料,编列在文末。
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