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完全耗尽型SOI、红外对准．硅片间的低温氧化物键合以及高密度的3-D通孔等技术被成功地结合起来，用于3-D可视成像仪和雪崩光电二极管成像仪的制造。
使用SOI衬底的3-D CMOS成像仪
【摘 要】
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完全耗尽型SOI、红外对准．硅片间的低温氧化物键合以及高密度的3-D通孔等技术被成功地结合起来，用于3-D可视成像仪和雪崩光电二极管成像仪的制造。
【机 构】
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LincolnLaboratory,IEEEFellowMicroelectronicConsultantsofNC
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年9期
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