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采用射频磁控溅射方法制备钙钛矿型钛酸铅铁电薄膜。通过各种不同溅射工艺条件研究，在适宜的溅射条件和基片温度下，溅射获得的PbTiO3薄膜表面晶粒大小均匀，膜层致密性好，经XRD分析证实，薄膜为钙钛矿型结构PbTiO3。外加Pt电极对薄膜进行测试表明，溅射得到的PbTiO3薄膜具有较好的电滞回线特性。