Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀沉积过程的模拟研究

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本文模拟了Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀的镀膜过程。通过对圆柱形镀膜室-偏压电场的模拟,讨论了在不同的偏压电场下粒子的运动特性、成分离析效应的影响因素、涂层成分均匀性的影响因素,模拟结果与实际的镀膜实验相符。
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