【摘 要】
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研究了TEM样品制备条件对Cu/低k制程ILDTDDB失效样品及含更低介电常数（k=2.7）介质层样品的TEM成像质量的影响,发现在一定的样品制备条件下低介电常数介质的疏松特性可在TEM成像
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研究了TEM样品制备条件对Cu/低k制程ILDTDDB失效样品及含更低介电常数（k=2.7）介质层样品的TEM成像质量的影响,发现在一定的样品制备条件下低介电常数介质的疏松特性可在TEM成像时得到增强显示,进而揭示了某Cu/低k制程ILDTDDB可靠性失效样品的失效机理为芯片制造过程中介质层沉积温度异常导致其疏松特性增强,介电常数降低,从而导致其电绝缘性能下降而引起TDDB可靠性测试项目失效。
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