【摘 要】
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为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法（LCVD）沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W（CO）6裂解成膜,通过
【机 构】
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福州京东方光电科技有限公司; 北京京东方传感技术有限公司;
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为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法（LCVD）沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W（CO）6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜（FIB-SEM）观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响,再用高精度的电参数测试仪（EPM）测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底损伤越大,但电阻率越小,且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤;激光辐射速度越大,基底损伤越小,但电阻率越大。通过平衡工艺参数,得到了电阻率为0.96Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜,成分分析表明此时W（CO）6已经完全裂解。
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