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光化学气相沉积薄膜的生长机理及其研究进展
光化学气相沉积薄膜的生长机理及其研究进展
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kn4281
【摘 要】
:
近年,作为固体表面一项新的低温成膜工艺,光化学气相沉积已经取得了显著进展。本文从光化学原理角度出发,介绍了光化学气相沉积反应的能量过程及生长机理,并展望了它的今后发展前
【作 者】
:
彭英才
【机 构】
:
河北大学电子与信息工程系
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1994年4期
【关键词】
:
光化学气相沉积
薄膜
生长机理
低温成膜工艺
Photo-CVD
Thin film
Growth mechanism
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近年,作为固体表面一项新的低温成膜工艺,光化学气相沉积已经取得了显著进展。本文从光化学原理角度出发,介绍了光化学气相沉积反应的能量过程及生长机理,并展望了它的今后发展前景。
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