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用于立体光刻的自由基光敏树脂研究与应用
用于立体光刻的自由基光敏树脂研究与应用
来源 :辐射研究与辐射工艺学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hgs26
【摘 要】
:
对用于立体光刻技术中的自由基光敏树脂进行了研究。研究了齐聚物和稀释单体的分子结构、分子量大小、反应性官能团密度对固化物硬度、柔韧性的影响规律。得到了两种价格低,性
【作 者】
:
阴金香
刘国文
【机 构】
:
清华大学化学系
【出 处】
:
辐射研究与辐射工艺学报
【发表日期】
:
1998年3期
【关键词】
:
自由基
光敏树脂
立体光刻
光刻树脂
Freeradical system
Photosensitive resin
Stereolithography
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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对用于立体光刻技术中的自由基光敏树脂进行了研究。研究了齐聚物和稀释单体的分子结构、分子量大小、反应性官能团密度对固化物硬度、柔韧性的影响规律。得到了两种价格低,性能优良的光敏树脂材料。为自由基型高分子光敏树脂材料的应用打下了基础。
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