【摘 要】
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应用坩埚下降法生长了Pr3+离子掺杂的Na5Lu9F32单晶体.系统地研究了Pr3+掺杂的Na5Lu9F32单晶的吸收光谱、荧光光谱和荧光衰减曲线.应用Judd-Ofelt理论分析计算了其光学强度等
【机 构】
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宁波大学光电子功能材料重点实验室; 大连海事大学物理系;
【基金项目】
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The National Natural Science Foundation of China(Nos.51772159,51472125);the Natural Science Foundation of Zhejiang Province(No.LZ17E020001)
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应用坩埚下降法生长了Pr3+离子掺杂的Na5Lu9F32单晶体.系统地研究了Pr3+掺杂的Na5Lu9F32单晶的吸收光谱、荧光光谱和荧光衰减曲线.应用Judd-Ofelt理论分析计算了其光学强度等参数,结果表明Pr3+离子处于Pr-F强共价键的高对称环境中.在440nm光的激发下观察到以482、523和605nm为中心的尖锐的强荧光发射带.研究了Pr3+掺杂浓度对上述发光强度的影响规律,实验发现当Pr3+掺杂浓度达到～0.5mol%时,其荧光发射强度达到最大.分析了环境温度从298K到443K变化时对荧光强度的影响,随着温度的增加,荧光强度逐步变弱,且其523nm的绿光受温度影响要小于482nm的蓝光和605nm的红光.
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