【摘 要】
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第 1 期(总第 170 期)用于 100nm 节点 ArF 准分子激光光刻的相移掩模技术……… 冯伯儒,张 锦,宗德蓉,刘 娟,陈宝钦,刘 明 (1)原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立
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第 1 期(总第 170 期)用于 100nm 节点 ArF 准分子激光光刻的相移掩模技术……… 冯伯儒,张 锦,宗德蓉,刘 娟,陈宝钦,刘 明 (1)原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立…… 陈献忠,姚汉民,陈旭南,李 展,陈元培,高洪涛,石建平 (5)用 KMP 算法进行星敏感器星图识别的
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