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MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究
MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究
来源 :电波科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:a348956376
【摘 要】
:
为改进微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置中的加热系统,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解;
【作 者】
:
杨春山
傅文斌
周璧华
【机 构】
:
解放军理工大学工程兵工程学院电磁脉冲室,空军雷达学院,解放军理工大学工程兵工程学院电磁脉冲室
【出 处】
:
电波科学学报
【发表日期】
:
2002年5期
【关键词】
:
MPCVD
温度场
基片加热材料
化学气相沉积
微波等离子体化学气相沉积
摄动技术
substrate heating material
chemical v
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为改进微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置中的加热系统,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解;通过对基片加热材料的微波设计,在MPCVD装置中获得大于基片台直径的均匀温度分布区.
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