【摘 要】
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采用脉冲激光沉积法在Si(111)基片上制备了ZnO薄膜。利用X射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究了工作氧压对ZnO薄膜的结晶特性和光学性能的影响。研究结果表明
【机 构】
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河北大学物理科学与技术学院,河北工业大学材料学院,河北大学物理科学与技术学院河北保定071002,天津300130,河北保定071002
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采用脉冲激光沉积法在Si(111)基片上制备了ZnO薄膜。利用X射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究了工作氧压对ZnO薄膜的结晶特性和光学性能的影响。研究结果表明,氧压的增大,有助于更多的氧原子进入晶格,有效减少薄膜中的缺陷和应力,使ZnO薄膜结构趋于完整,但是过高的氧压将严重地影响薄膜的沉积速率,加剧衬底Si的氧化,从而使薄膜的结晶质量恶化。所有的ZnO薄膜均显示出较强的紫外发光峰,并且结晶性与发光特性有很好的一致性。
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