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通过磁控溅射法在硅基材上制备了不同基底温度的TaMo和TaMoN涂层，采用原子力显微镜（AFM）和X射线衍射仪（XRD）研究了在第三组元N加入的情况下TaMo涂层的表面形貌和组织结构，采用CHI电化学分析仪分析了涂层的耐腐蚀性能，并分别对涂层进行了1000℃＋300h高温氧化性能试验。实验结果表明，两种基底温度工艺下氮元素的加入对TaMo涂层的组织结构和表面形貌均有显著影响。另外，氮元素的加入可以提高TaMo涂层的耐腐蚀性能，但对TaMo涂层的耐高温性能没有改善。