【摘 要】
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采用近红外光谱法对慈竹密度、抗弯强度和顺纹抗拉强度进行快速预测。利用反向区间偏最小二乘法(BiPLS)优选光谱区间,建立原始光谱和不同预处理(一阶微分、二阶微分、卷积平滑和
【基金项目】
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国家“十一五”科技支撑计划课题(2006BAD19B0704)资助
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采用近红外光谱法对慈竹密度、抗弯强度和顺纹抗拉强度进行快速预测。利用反向区间偏最小二乘法(BiPLS)优选光谱区间,建立原始光谱和不同预处理(一阶微分、二阶微分、卷积平滑和归一化处理)光谱分析模型,同时应用偏最小二乘法(PLS)在全谱范围350~2 500nm建立各光谱分析模型,并对所建模型进行比较分析。结果表明:同全谱PLS模型相比,BiPLS能够有效选择光谱区间,并且提高模型预测精度,其中,密度、抗弯强度和顺纹抗拉强度分别选用归一化处理光谱、二阶微分光谱和一阶微分光谱,BiPLS将全光谱分别划分为30
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