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全球半导体设计制造软件和知识产权领先企业新思科技有限公司和全球领先的半导体制造商中芯国际集成电路有限公司于5月18日宣布开始提供用于中芯国际65nm低漏电（Low Leakage）工艺技术的新思科技经硅验证的和获得USB标志认证的Design Ware USB2．0nano PHY知识产权（IP）。