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以不锈钢为基体,采用连续阴极电沉积的方法,制备了ZnO/Cu2O复合膜,并通过X-射线衍射和扫描电镜进行了表征。以Cr(Ⅵ)为模拟无机污染物,在可见光下,测试了其光催化还原活性。结果表明,ZnO/Cu2O复合膜的光催化活性与Cu2O的沉积量有关,在其沉积量为0.010g/dm^2时,反应1h后,Cr(Ⅵ)在ZnO/Cu2O上的还原率为35.3%,而在Cu2O薄膜上的还原率仅为8.6%。实验还发现,ZnO/Cu2O复合膜的光催化氧化能力也有了较大程度的提高。在相同实验条件下,甲基橙在Cu2O薄膜上的降解率只