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0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型
0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型
来源 :光电工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Boogie
【摘 要】
:
介绍用于0.35μm投影光刻机的逐场调平技术,讨论其检测和控制原理,并作精度分析;讨论逐场调平对套刻精度的影响,并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。
【作 者】
:
胡淞
姚汉民
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所,610209
【出 处】
:
光电工程
【发表日期】
:
1998年A12期
【关键词】
:
投影光刻机
逐场调平
步进模型
IC
Projection stepper
Field- by- field leveling
Stepping model
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介绍用于0.35μm投影光刻机的逐场调平技术,讨论其检测和控制原理,并作精度分析;讨论逐场调平对套刻精度的影响,并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。
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