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介绍用于０．３５μｍ投影光刻机的逐场调平技术，讨论其检测和控制原理，并作精度分析；讨论逐场调平对套刻精度的影响，并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。
0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型
【摘 要】
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介绍用于０．３５μｍ投影光刻机的逐场调平技术，讨论其检测和控制原理，并作精度分析；讨论逐场调平对套刻精度的影响，并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,610209
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1998年A12期
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