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通过脉冲激光沉积方法在不同的氧压中制备ZnO薄膜。用X射线衍射（XRD）谱、原子力显微镜（AFM）及光学透过率谱表征了薄膜的结构和光学特性。XRD谱和AFM显示在生长压力为2Pa时获得了较好的结晶薄膜,随着氧压的提升薄膜表面平整,晶粒均匀。光学透过率谱显示在生长压力为5Pa时有较好的光学特性。
氧压对用PLD法制备的ZnO薄膜的特性影响
【摘 要】
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通过脉冲激光沉积方法在不同的氧压中制备ZnO薄膜。用X射线衍射（XRD）谱、原子力显微镜（AFM）及光学透过率谱表征了薄膜的结构和光学特性。XRD谱和AFM显示在生长压力为2Pa时获得了
【机 构】
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济南大学理学院,山东师范大学物理与电子科学学院
【出 处】
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济南大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2009年4期
【基金项目】
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山东省自然科学基金（2008A21）,国家自然科学基金（10474059）
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