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良率总是一个问题，但纳米技术对这个问题的关注是是前所未有的。在复杂的、高性能的设计中，很难得到令人满意且稳定的良率；随着摩尔定律的每次新的进展，良率值也有规律地下降（图1）。在设计和生产流程中，人人都知道风险很大，但是它又是怎样影响最终结果呢？
采用通孔双置技术提高设计鲁棒性
【摘 要】
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良率总是一个问题，但纳米技术对这个问题的关注是是前所未有的。在复杂的、高性能的设计中，很难得到令人满意且稳定的良率；随着摩尔定律的每次新的进展，良率值也有规律地下降（图1）
【机 构】
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WalterNg
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2006年9期
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