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介绍了射频溅射ＳｉＯ２的原理与工艺，对制造出的Ｓｉ／ＳｉＧｅＨＢＴ作了分析。
射频溅射SiO2在制造Si／SiGeHBT中的应用
【摘 要】
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介绍了射频溅射ＳｉＯ２的原理与工艺，对制造出的Ｓｉ／ＳｉＧｅＨＢＴ作了分析。
【机 构】
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北京工业大学电子工程系
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1999年4期
【基金项目】
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北京自然基金,国家“863”项目资助
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