从84年“三束”会议看粒子束曝光技术的现状和发展

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今年五月底六月初我们出席了在美国纽约附近的Tarrytown召开的1984年国际电子束离子束和光子束讨论会(简称“三束”会议)。会议前后,我们还参观了一年一度的美国西部半导体设备和材料展览会(Semicon/West),访问了斯坦福大学的固态电子学实验室,廉奈尔大学的国家亚微米中心,IBM的华生研究中心,Varian,Micro-mix,SVG公司等。下面就我们在会上及参观访问过程中了解到的关于粒子束(电子束,离子束,X射线及光子束)曝光技术的情况谈谈我们的粗浅看法。 At the end of May this year and early June, we attended the 1984 International Conference on Electron Beam Ion Beams and Photon Beams (“Three Beams” Conference) held in Tarrytown, near New York, USA. Before and after the conference, we also visited the annual Semicon / West semiconductor lab and visited Solid State Electronics Laboratory at Stanford University, the National Submicron Center at the University of Jonee, IBM Watson Research Center, Varian, Micro-mix, SVG companies. Now let's talk about our superficial view on the exposure of particle beam (electron beam, ion beam, X-ray and photon beam) we learned during the conference and visiting.
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