Li2O-V2O5-SiO2薄膜结构与电化学性能研究

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【摘要】

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采用355nm脉冲激光沉积（PLD）法以Li6．16V0.61Si0.39O5．36为靶制备了Li2O-V2O5-SiO2薄膜。由X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、表面轮廓、交流阻抗（ACI）、直流极化（DCP）等方法对薄膜

【作者】

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蔡羽赵胜利文九巴刘先年

【机构】

：

河南科技大学信息管理研究所,河南科技大学材料学院,复旦大学激光化学研究所

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2006年9期

【关键词】

：

无机非金属材料 Li2O-V2O5-SiO2 脉冲激光沉积薄膜结构电化学性质 inorganic non-metallic materials PLD

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采用355nm脉冲激光沉积（PLD）法以Li6．16V0.61Si0.39O5．36为靶制备了Li2O-V2O5-SiO2薄膜。由X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、表面轮廓、交流阻抗（ACI）、直流极化（DCP）等方法对薄膜的形貌、结构及电化学性能进行表征，讨论了Li2O-V2O5-SiO2薄膜电化学性能与其结构的关系。结果表明，该薄膜是一种元针孔和裂缝、厚度均匀、组成致密的非晶态结构；Li2O-V2O5-SiO2薄膜离子电导率与温度符合Arrhenius关系，离子迁移数接近1．0（tion

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