采用355nm脉冲激光沉积(PLD)技术,以Li6.16V0.61Si0.39O5.36为靶材制备Li2O-V2O5-SiO2薄膜,考察了反应气氛压强、激光能量密度、基......

采用355nm脉冲激光沉积（PLD）法以Li6．16V0.61Si0.39O5．36为靶制备了Li2O-V2O5-SiO2薄膜。由X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、表面轮......