【摘 要】
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为了改进K波段以上大功率FET的性能应用了深凹槽沟道结构。内匹配的器件已经展示了在18GHz下输出功率2W,功率附加效率16％,和在29.5GHz以下3dB的相关增益获得165mW的功率。
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为了改进K波段以上大功率FET的性能应用了深凹槽沟道结构。内匹配的器件已经展示了在18GHz下输出功率2W,功率附加效率16％,和在29.5GHz以下3dB的相关增益获得165mW的功率。
Deep trench trench structures are used to improve the performance of high-power FETs above the K band. The internally matched devices have demonstrated output power of 2W at 18GHz, power added efficiency of 16%, and gain of 165mW at a correlated gain of 3dB below 29.5GHz.
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