【摘 要】
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实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究。利用原子力显微镜观察
【机 构】
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西华师范大学物理与电子信息学院,中国工程物理研究院激光聚变研究中心等离子体物理重点实验室
【基金项目】
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中国工程物理研究院等离子体物理重点实验室基金项目（9140c680501007）, 西华师范大学大学生科技创新基金项目（42710071）, 四川省教育厅资助课题（1010ZC119）
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实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究。利用原子力显微镜观察样品的表面形貌发现随着溅射功率的增加,薄膜表面粗糙度逐渐增大。X射线衍射分析表明薄膜呈立方多晶结构,晶粒尺寸为14.1～17.9nm;应力先随溅射功率的增大而增大,在40W时达到最大值（2.383GPa）,后随溅射功率的增大有所减小。
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