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采用磁控溅射方法制备Ni薄膜热敏电阻,其电阻温度系数(TCR)为5.7×10-3/℃.对Ni电阻薄膜表面和横截面进行了电子探针微分析(EPMA),得到了Ni薄膜横截面的线分析谱线,并对Ni薄膜表面结构进行了较深入的分析.
Ni薄膜热敏电阻的研究
【摘 要】
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采用磁控溅射方法制备Ni薄膜热敏电阻,其电阻温度系数(TCR)为5.7×10-3/℃.对Ni电阻薄膜表面和横截面进行了电子探针微分析(EPMA),得到了Ni薄膜横截面的线分析谱线,并对N
【出 处】
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仪器仪表学报
【发表日期】
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2004年z1期
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