Ni薄膜相关论文
在多晶AlO基片上用射频磁控溅射法沉积Ni薄膜,将所得的样品N气保护下在400℃和800℃保温30分钟,采用光电子能谱配合Ar离子原位刻蚀......
The electron thermalization and relaxation processes in ferromagnetic nickel thin film and micro-nano-structure film hav......
本文采用共溅射的方法在玻璃基底上制备了一系列不同金属体积分数x(0.48≤x≤1.00)的Ni-SiO2颗粒膜；采用单靶射频溅射的方法制备了......
学位
比较空心微球表面化学镀Ni薄膜的工艺。分别以Sn-Pd胶体溶液和[Ag（NH3）2]^＋溶液作为活化剂，将空心微球表面进行活化，再采用化学镀的方法......
采用化学镀技术在低密度玻璃微球表面沉积了一层Ni镀层，制备了具有导电性和磁性的Ni镀层／玻璃微球壳一核复合粉体。采用X射线衍射仪（X......
采用磁控溅射方法制备Ni薄膜热敏电阻,其电阻温度系数(TCR)为5.7×10-3/℃.对Ni电阻薄膜表面和横截面进行了电子探针微分析(EP......
利用磁控溅射方法制备了不同厚度和退火处理的Ni薄膜．表面磁光克尔效应研究表明：冷基底无退火处理的Ni薄膜为软磁性，退火处理的Ni薄膜......
白蔓延反应能在极短时间内产生足够集中的热量熔化钎料实现材料的连接，具有连接效率高、对连接母材热影响小等特点，从而在材料连接和......
采用动态蒙特卡罗（kinetic Monte Carlo，简称KMC）方法研究物理气相沉积（physical vapor deposition，简称PVD）制备Ni薄膜过程中入射角度对......
采用电化学方法制备Ag@AgI/Ni表面等离子体薄膜催化剂，使用扫描电镜（SEM），X射线衍射（XRD）和紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis DRS）对薄膜的表面......
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,以Ni为催化剂,在Si基底上沉积出定向性良好的碳纳米管。用扫描电镜表征了催化剂颗粒大小和......
铁磁性镍薄膜和微纳结构镍薄膜的超快电子动力学对提高信息的读写速度和微纳器件的响应速度与稳定性有着非常重要的指导意义。而要......
详细研究了超薄Ni薄膜中的电子输运性质.我们发现在3～16 nm厚的Ni薄膜中低温时存在弱局域对纵向电阻率、反常霍尔电阻率和反常霍尔......
