纳米尺度HfO2薄膜的光谱椭偏模型建立

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【摘要】

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为了建立厚度为1 nm左右HfO2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO2超薄膜的光谱椭偏结构

【作者】

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张寅辉任玲玲高慧芳贾亚斌 Fu Weien 刘小萍 K

【机构】

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太原理工大学,山西太原030024中国计量科学研究院,北京100029;中国计量科学研究院,北京,100029;工业技术研究院,新竹30011;太原理工大学,山西太原,030024;韩国标准科学研究院

【出处】

：

计量学报

【发表日期】

：

2017年5期

【关键词】

：

计量学 HfO2超薄膜纳米尺度光谱椭偏模型掠入射X射线反射技术

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为了建立厚度为1 nm左右HfO2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型.研究了HfO2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45～4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60∶40.

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