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文章主要介绍硅基非致热释电红外焦平面阵列典型结构，制备工艺以及最新进展。
硅基非致冷热释电红外焦平面阵列技术的新进展
【摘 要】
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文章主要介绍硅基非致热释电红外焦平面阵列典型结构，制备工艺以及最新进展。
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
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四川真空
【发表日期】
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1999年2期
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