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介绍了软Ｘ射线Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ光学元件的特点，并以磁控溅射法制备多层膜，再采用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成波带片图形，通过显影、离子束刻蚀完成元件的制作 。
用光学全息方法研制软X射线Bragg—Fresnel光学元件
【摘 要】
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介绍了软Ｘ射线Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ光学元件的特点，并以磁控溅射法制备多层膜，再采用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成波带片图形，通过显影、离子束刻蚀完成元件的制作 。
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实,中国科技大学国家同步辐射实
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1999年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金,“863”激光领域青年基金,应用光学国家重点实验室基金资助课题
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