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用龈上皮细胞在底物上培养，倒置显微镜下观察生长晕（ｏｕｔｇｒｏｗｔｈ）扩展的程度，扫描电镜下观察细胞贴附情况，细胞在１～８ｄ增减中在硅酮底物上形成的生长晕明显小于在羟基磷灰石上的生长晕，电镜观察上皮细胞直接附着ＨＡ，可见分裂相，上皮细胞不附着硅酮，少分裂相，硅酮作为生物隔膜材料（ＢＭＴ）能阻止上皮细胞生长且对牙周病治疗防止龈上皮过长有一定临床意义。