真空共蒸发法沉积的ZnTe:Cu薄膜

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用真空共蒸发法沉积了ZnTe和ZnTe:Cu多晶薄膜,研究了Cu含量对薄膜结构和电学性能的影响。发现刚沉积的ZnTe薄膜和轻掺杂的ZnTe:Cu薄膜的结构均为高度(111)择优取向的立方相。掺杂浓度较高的ZnTe:Cu薄膜除了立方相外,还存在六方相。重掺杂薄膜中(111)择优取向消失。在ZnTe:Cu薄膜中观察到反常的暗电导温度关系曲线。薄膜的光学能隙在2.15~2.21eV之间。用结构相变的观点对实验现象作了解释。
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