MOCVD法制备SnO2单晶薄膜的结构和光学性质

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用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石(0001)衬底上制备出高质量的氧化锡(SnO2)单晶薄膜。对制备薄膜的结构和光学性质进行了研究。制备样品具有纯snO2的四方金红石结构,其外延生长方向为SnO2(100)∥Al2O3(0001)。薄膜均匀、致密,具有很好的取向性和结晶性。透射谱测量结果表明,在可见光区薄膜的绝对透过率达到了90%以上。
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