【摘 要】
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基于SMIC 0.13μm CMOS工艺,设计一款纳瓦级功耗的全CMOS带隙基准电路。该电路由全CMOS电路实现,避免使用三极管和电阻,实现了节省芯片面积的目的。晶体管工作在三极管区和亚
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(61366006)
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基于SMIC 0.13μm CMOS工艺,设计一款纳瓦级功耗的全CMOS带隙基准电路。该电路由全CMOS电路实现,避免使用三极管和电阻,实现了节省芯片面积的目的。晶体管工作在三极管区和亚阈值区,大幅降低了功耗。Cadence仿真结果表明:在-20~100℃范围内,温度系数为31 ppm/℃;在电源电压1.2~3.3 V的变化范围内,电源电压漂移系数为0.42%/V。参考电源电压下,电路的电源抑制比(PSRR)达到51.7 dB@100 Hz;室温下,电路总静态电流为22.8 nA,功耗为27.4 nW@1
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