反可见、中红外、透10.6 μm高能激光分色镜的研制

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介绍了利用离子辅助在ZnSe基底上沉积YbF3和ZnSe制作反可见、中红外、透10.6 μm高能激光分色镜的理论和工艺方法.采用红外优秀的镀膜材料YbF3替代传统的有放射性红外镀膜材料ThF4用于制作反可见、中红外、透10.6μm高能激光分色镜取得了较好的效果.同时所研制的分色镜在透射率、反射率,吸收等光学性质,应力硬度牢固度等力学性质,和抗高能激光损伤阈值等方面进行了一系列的测试,基本达到理想的指标.
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