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目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材.重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法,最后分析了存在的技术难点和需要解决的问题.
磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展
【摘 要】
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目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材.重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法,最后分析了存在的技术难点
【机 构】
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昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室
【出 处】
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贵金属
【发表日期】
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2004年期
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