多离子束反应共溅射制备PbTiO_3铁电薄膜的微结构研究

来源 :电子显微学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yangsongzhao99
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本文利用多离子束反应共溅射装置,分别在Si和MgO衬底上原位制备了Pb-Ti氧化物薄膜。研究表明,利用多离子束反应共溅射技术,可以显著降低薄膜后续热处理的温度;薄膜中焦绿石结构的消失温度与薄膜中Pb的含量有关;较之Si衬底,在MgO衬底上的薄膜较易获得好的晶体结构和优良的薄膜表面形貌。对所观察到的形象,从衬底与薄膜相互作用的角度进行了讨论。
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