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介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术及RCA清洗技术的进步和优化,对半导体圆片的湿法清洗工艺步骤优化进行了分析.
全自动RCA清洗机工艺探讨
【摘 要】
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介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术及RCA清洗技术的进步和优化,对半导体圆片的湿法清洗工艺步骤优化进行了分析.
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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清洗世界
【发表日期】
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2020年10期
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