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对渗氮等离子体活性粒子的研究结果,提出了与过去完全不同的观点,即在渗氮过程中并不是离子,而是等离子体中的中性粒子撞击金属表面.正是这些中性粒子对渗氮起作用.因此不需要在被处理的工件上直接生成等离子体.这一重大发现就是"网栅"(TC)或活性屏离子渗氮的基础.这种方法比传统的加工工艺有许多优点.