TiN夹杂物对超纯铁素体不锈钢点蚀的影响

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通过电化学试验和浸泡试验,利用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和原子力显微镜(AFM)表征了超纯铁素体不锈钢的点蚀坑尺寸、TiN夹杂物的微观结构以及TiN与基体的电势差和高度差,分析了TiN对试样点蚀发生和扩展的作用机理.结果表明:试样的腐蚀电位和点蚀电位分别为94 mV和353 mV,点蚀坑的平均宽度和深度分别为203.6μm和114.74μm,TiN夹杂物以单个或团簇的形式存在;TiN比基体的电势高65 mV,点蚀优先在TiN与基体界面处发生,基体成为阳极发生微电偶腐蚀;由“孔内活化-孔外钝化”腐蚀电池引起的自催化过程加速了点蚀的扩展.
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