【摘 要】
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两种不同工艺清洗的显像管电子枪电极用 XPS、SEM 和 AES 进行了分析研究,发现用国内工艺清洗的电极表面大多程度不同的存在污染斑痕。污染物的主要成份是 Na、Cl、S、CaO、M
【机 构】
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机电部12所表面分析中心,机电部12所表面分析中心,机电部12所表面分析中心,
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两种不同工艺清洗的显像管电子枪电极用 XPS、SEM 和 AES 进行了分析研究,发现用国内工艺清洗的电极表面大多程度不同的存在污染斑痕。污染物的主要成份是 Na、Cl、S、CaO、MgO 和 Al_2O_3,很可能是未彻底清洗掉的研磨剂残留物。分析表明,表面分析技术在显像管研制与生产中有可能发挥重要作用。
Two kinds of CRTs were cleaned by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), scanning electron microscopy (SEM) and AES. The results showed that the surface of the electrode cleaned by domestic technology mostly had contamination marks. The major pollutants are Na, Cl, S, CaO, MgO and Al 2 O 3, most likely incomplete abrasive residues. Analysis shows that the surface analysis technology in the development and production of CRT may play an important role.
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