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硅中氧沉淀的研究
硅中氧沉淀的研究
来源 :材料科学与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:weiwen1982
【摘 要】
:
随着大规模集成电路的发展,氧沉淀对硅片的机械性能和器件的电学性能,有着越来越重要的影响。本文就氧沉淀的影响因素,沉淀的数目、速率、形态、形核和长大机理,碳及其它杂质
【作 者】
:
杨德行
【机 构】
:
浙江大学半导体材料研究所
【出 处】
:
材料科学与工程
【发表日期】
:
1990年2期
【关键词】
:
氧沉淀
硅片
单晶硅
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随着大规模集成电路的发展,氧沉淀对硅片的机械性能和器件的电学性能,有着越来越重要的影响。本文就氧沉淀的影响因素,沉淀的数目、速率、形态、形核和长大机理,碳及其它杂质原子对氧沉淀的作用等方面的研究近况作一综合介绍。
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